上海微电子装备(集团)股份有限公司(简称SMEE)成立于2002年3月,定位“赋有国家使命的市场化公司”。SMEE 自“十五”起,先后承担了多个“国家 IC 前道光刻机研制专项任务”。在专项技术的辐射下,SMEE 根据半导体产业、泛半导体产业和信息技术发展趋势与市场需求全面布局,开发了一系列高端装备,是国内具备制造多领域、多品种产线应用的高端光刻机供应商。

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产品服务

  • SSB200系列投影光刻机采用先进的投影光刻机平台技术,专用于AM-OLED和LCD显示屏TFT电路制造,可应用于2.5代~6代的TFT显示屏量产线。该系列设备具备高分辨率、高套刻精度等特性,支持6英寸掩模,显著降低用户使用成本。

  • SSB500系列步进投影光刻机基于先进的步进光刻机平台技术,面向IC后道封装、MEMS/NEMS制造领域,适用于FlipChip、Fan-In、Fan-Out工艺中的凸块(Bumping)工艺,以及晶圆级封装(WLP)的重新再布线(RDL)等先进封装工艺。

  • SSX600系列步进扫描投影光刻机采用四倍缩小倍率的投影物镜、工艺自适应调焦调平技术,以及高速高精的自减振六自由度工件台掩模台技术,可满足IC前道制造90nm、110nm、280nm关键层和非关键层的光刻工艺需求。该设备可用于8寸线或12寸线的大规模工业生产。

AI算法工程师
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图像算法工程师
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2024-03-21

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